第440章 KBBF晶体发明人（2/2）

他扶了扶眼镜，身体微微前倾，眼神里的审视意味更浓了。

“详细说说。”

马宇腾组织了一下语言，將之前与魔都微电子贺天成的交流內容，原原本本地复述了一遍。

他从当前主流duv光刻机使用的arf准分子雷射光源讲起，谈到其存在的稳定性和纯净度问题。

接著，他引出了kbbf晶体的独特优势。

“……根据魔都微电子那边的分析，利用kbbf晶体的六倍频技术，可以製造出177.3纳米的全固態深紫外雷射源。这种光源在稳定性、光束质量和维护成本上，理论上要远远优於现在主流的准分子雷射。”

陈闯天的表情逐渐变得凝重。

他確实从来没有考虑过这个应用方向。

kbbf晶体的研究，最初的立项背景，是为了国家的某个重大专项，目標直指高能雷射领域。

他们团队所有的精力，都放在如何提升晶体的能量转换效率和雷射功率上。

至於光刻机，那是一个完全陌生的领域。

“你的想法很大胆。”陈闯天沉声说道。

“但是，把实验室里的原理，变成工业级的应用，中间隔著一道天堑。”

“是的。”马宇腾点头，他知道真正的关键问题要来了。

“贺总那边也提到了目前存在的两个核心难题。”

“第一，这是一条全新的技术路线，与阿斯麦、尼康等国际巨头走的准分子雷射路线完全不同。这意味著我们需要从头开始，自主研发整套光源系统，没有任何经验可以借鑑。”

“第二，也是最致命的，kbbf晶体本身存在技术缺陷。它的层状结构导致其极易开裂，目前实验室还无法生长出能够满足光刻机功率要求的大尺寸、高质量晶体，量產工艺更是一片空白。”

马宇腾將贺天成当初的忧虑，一字不差地转述给了面前这位kbbf晶体的发明者。

办公室里陷入了长久的沉默。

陈闯天靠在沙发上，手指无意识地在膝盖上敲击著。

马宇腾的话，像一把钥匙，为他打开了一扇他从未关注过的大门。

光刻机，国之重器。

这个领域的落后，是所有国內半导体从业者心中的一根刺。

如果kbbf晶体真的能在这条赛道上另闢蹊径，那它的战略意义，將远超之前设想的任何应用。

许久，陈闯天抬起头，目光重新落在马宇腾身上。

“晶体尺寸和生长工艺，確实是我们多年来未能完全攻克的难关。”

“那……有解决的希望吗？”马宇腾追问。

“有。”陈闯天给出了一个肯定的答覆。

“任何工程问题，只要有足够的资源投入和正確的方向引导，早晚都能解决。只是时间问题。”

“但是……”

陈闯天话锋一转，语气沉了下去。

“我必须跟你说清楚现实情况。”

他站起身，走到书柜前，抽出一份装订简陋的报告，翻到某一页，递给马宇腾。

“我们中心目前承担的课题，全都围绕高能雷射方向。经费拨款、人员编制、考核指標，都是按这个方向定的。”

马宇腾接过报告，扫了一眼封面上的课题编號和拨款金额。

数字不大，对於一个院士级別的研究团队而言，甚至称得上寒酸。