第307章 总算不用被念叨了（2/2）

从这个角度来说，研究隱身衣本身就是在研究光刻技术的应用延伸。

高长安得到这个肯定的答覆之后，没再多说什么，而是又从隨身的公文包里抽出一个深蓝色的文件夹，递到了肖宿面前。

肖宿翻开一看，是一份关於国產深紫外光刻系统关键子系统研製进展的报告。

他往下翻了几页，发现內容很简略，就是从整体上勾勒出了目前国產光刻系统研发的大致格局，然后提到了国產深紫外光刻系统关键子系统研製项目组。

简单来说，这是一个专项由科技部牵头，联合了国內几家最具实力的微电子研究所和精密光学研究单位共同攻关的实验课题。

其中，沪城微电子研究所承担了核心光学系统的设计任务，长光精密光学研究所负责物镜系统的加工与装调，另外还有几家单位分別负责光源、工件台和浸没系统的研发。

这套被寄予厚望的国產光刻系统，对標的是国际上已经成熟应用多年的193纳米浸没式光刻平台，目標是实现从光源到物镜到工件台的全系统自主可控……

前面那些光刻系统的技术架构肖宿並不陌生，193纳米浸没式光刻在国际上已经成熟应用很多年了，那些光学系统的底层理论框架没什么特別的，肖宿扫了几眼就大致了解他们的设计思路了。

这些没什么可看的，他很快就翻完了，视线停在了报告最后一页上。

这里他们重点写了几个这个实验目前遇到的瓶颈。

光学系统的波像差一直压不到目標值以下，导致解析度无法稳定满足工艺节点的要求……

工件台的定位精度虽然在静態测试中达標，但在高速扫描状態下的动態跟踪误差始终偏大，影响曝光效率……

照明系统的空间相干性均匀度差，多次调整光学设计都没能彻底改善，直接限制了成像对比度……

这上面的几个问题还只是子系统层面的。

当所有子系统联调联试的时候，各单元之间的耦合误差还会进一步叠加放大。

也就是说，整个系统的综合性能距离实用化还是有相当一段距离的。

肖宿把匯报翻完，抬眼看向高长安。

高长安不等他开口，连忙解释道：

“肖教授，这个是科技部牵头的光刻机专项研究报告，目前国內几家顶尖的光刻机研究所，还有沪城微电子研究所，都在参与这个项目，只是……一直没有太大进展，遇到了一些技术瓶颈，他们知道您最近对光学感兴趣，就想请您帮忙看看。”

原来是想让他帮忙。

肖宿点点头，但是没有立刻答覆。

他重新翻开文件夹，翻到光学系统那一节，目光在波像差的描述段落上停了一会儿。

光刻物镜的波像差本质上是一个光学传递函数的相位偏差问题，而相位偏差的来源是物镜系统中几十片透镜的加工误差和装调误差的叠加。

在传统的光学工程中，波像差的校准靠的是对每一片透镜的六个自由度进行逐片微调，然后反覆测量验证，是一个典型的“调一调，看一看”的试凑过程。

但如果把整个物镜系统看作一个辛流形上的哈密顿系统，镜片组的装配自由度对应位形空间，波前误差对应哈密顿量，那波像差的最优校准就等价於在辛流形上寻找哈密顿量的极小值了。

而他已经在超材料设计的谱域对消框架里搭好了类似的最优逼近思路，把那里的控制论方法挪过来，也许能给出一个更系统的校准方案。

从方向上来说，可行。

但具体到他们遇到的那些数值指標到底能不能压下去，得亲眼看看实际的装调数据和测试环境才能判断。

光刻系统改进之后，后期他的隱形材料製作也能快很多了。

“可以，”肖宿说。

高长安明显鬆了一口气，语速都比平时快了半分。

“好的，那您大概什么时候方便？”

肖宿还要抓紧研究隱身衣，自然是越快越好。

“明天早上。”

“太好了，刚好明天上午沪城微电子的人这几天在京城的研发中心做联调测试，设备和技术人员都在，我这就安排。”

肖宿把文件夹放在桌上那堆超材料文献的旁边。

“嗯。”

高长安看著肖宿专注的身影笑了笑，转身出去安排的时候，脚步比进来时明显轻快了不少。

他总算不用再被高长平念叨了。