第230章 流片成功！（1/2）

沈永健的指令瞬间激盪在车间內。

刚刚因光刻机测试成功而鬆弛下来的气氛，立刻被一种更紧张，更严肃的气氛所取代。

二代步进式光刻机的製成虽然令人振奋，但於沈永健以及在场眾人而言，一切只是开始。

光刻机的研製一直都只是为了最终的目標，集成电路，也即初代的“晶片”。

承载著数百个电晶体，电阻，电容及其互连关係的整个“系统”的第一次实体化尝试，真正的成败在此一举。

“伟森，江河，你们去把恆温恆湿柜里的『581-3』掩膜版取出来！”

“戴好手套，动作要稳！”

闻言，张伟森和顾江河几乎是跑著去的。

小心翼翼地从特製的保护盒中取出那七片才製成的玻璃掩膜版。

五天的时间，最终的版图验证是在当天夜里靠著102机论证成功的。

后续的掩膜版製成难度同样极大，专门的特种石英玻璃也是哈工大雷校长上个月帮著突破的。

一共由307个电晶体构成的中规模集成电路，所需掩膜版一共七片。

每一片都代表著集成电路的一层结构。

倘若这次流片失败，不光掩膜版的工序需推倒重新再来，甚至连原先的版图包括最早的电路架构与设计都需要重新考量。

到底只是掩膜版工艺未达標，还有另外有系统性的漏洞，且没法通过计算机进行错误排除。

可以说，这次倘若失败，带来的工作量极大，起码还得一个月的时间才能进行下一次流片试验。

而放到后世，超大规模的集成电路晶片研製，往往一次流片失败，便是半年至一年以上的重新等待，是笔巨大的亏损。

“邵文同志，启动净化系统，检查环境参数。”

沈永健目光转向光刻机，开启正式的工作安排。

卓邵文熟练的操作下，车间顶部加装的空气净化系统发出低鸣，开始持续过滤著微尘。

“温度22.5度，湿度42%，符合光刻要求！”

…

“克勤同志，上硅片。”

周克勤此刻也已守在小型操作台旁，面前早已备好了数片经过严格清洗，氧化，並在涂胶机上均匀旋涂了光刻胶的硅圆片。

在沈永健的示意下，用真空吸笔小心翼翼地取出一片，精准地放置到光刻机的工作檯上。

工作檯在精密电机驱动下发出几乎微不可闻的“嗡”声，將硅片吸附固定。

卓邵文此刻也操作起控制面板，巨大的显微镜目镜被降下，屏幕上显示出硅片边缘的对准標记。

张伟森与顾江河二人轮流將掩膜版极其谨慎地插入光刻机的专用夹具。

此刻车间內人虽不少，但却静得可怕。

都屏气凝神，望著参与具体工作的几位同志。

“开始粗对！”

沈永健的声音低沉。

工作檯和掩膜版架在步进电机的驱动下开始微动。

很快硅片上的標记与掩膜版上的標记开始重合。

“粗对完成。”

…

“进入精对！”

隨著沈永健有条不紊的指挥，卓邵文紧听其號令，在精调旋钮上以几乎难以察觉的幅度转动。